Diseño y caracterización de un sistema de pulverización catódica DC para la deposición de películas delgadas de tierras raras y metales de transición

Resumen

Se diseñó y fabricó un sistema de pulverización catódica DC, que incluye dos electrodos de 25 mm de diámetro y un sistema de sondas cilíndricasde Langmuir para caracterizar el plasmadurante el crecimiento de películas. Se obtuvieron valores óptimos de temperatura, densidad electrónica, presión y separación electródica. Para la caracterización de la cámara de vacío (diámetro 180 mm, altura 110 mm) se utilizaron las curvas de presión-voltaje (P-V) con el fin de determinar los valores óptimos de separación electródica,
presión y voltaje. Los valores característicos encontrados son: V= 400V I = 50mA P = 1.7 mBar, distancia de separación electródica de 20mm. El ánodo tiene un Th ermocoax de puntas frías con una termocupla tipo K y un controlador de temperatura Omega. Para establecer una ley de escala que permitiera medir la razón de deposición y espesores de las películas se crecieron películas delgadas de Nd 0.257 Fe sobre sustratos de vidrio, durante tiempos de t = 6, 12 y 24 horas.